碳化硼涂层的制备方法
碳化硼喷嘴涂层存在着晶体和非晶体两种结构,非晶体涂层的硬度低于晶体涂层硬度｡制备碳化硼涂层的方法很多,主要有CVD､真空镀膜､可调射频磁溅射､LCVD､微波法､离子溅射等｡实际应用中应根据具体要求采用不同的方法制备碳化硼涂层,争取获得最大的效益｡
采用离子溅射制备B4C涂层时,影响涂层性能最重要的因素是溅射距离｡溅射距离对涂层的成分和微观结构影响很大,B2O3含量随着溅射距离的增大而增大,而涂层致密率随着溅射距离的增大而降低,弹性模量下降｡溅射距离增加导致致密率下降有两个原因:一是当粒子处于熔融状态时,伴随B2O3形成的气体被围在基体中形成气孔.
碳化硼喷嘴与酸、碱溶液不起反应，具有高化学位、中子吸收、耐磨 及半导体导电性。是对酸最稳定的物质之一，在所有浓或稀的酸或 碱水溶液中都稳定。用硫酸、氢氟酸的混合酸处理后，在空气中800 ℃煅烧21h，可完全分解并形成三氧化碳和三氧化二硼。当有一些过渡金属及其碳化物共存时，有特殊的稳定性。但是,目前对碳化硼涂层的研究还不够深入｡与对其它涂层的研究相比,国外只有少量论文对B4C作为硬涂层进行了探讨,而国内相关的研究成果就更少｡本文在目前的研究基础上,综述了碳化硼涂层的有关研究成果,探讨了碳化硼涂层研究的进展和未来发展方向｡
